大庆正方软件科技申请基于沉积微相追踪的储层预测方法专利，有效预测储层分布

金融界2025年4月1日消息，国家知识产权局信息显示，大庆正方软件科技股份有限公司申请一项名为“一种基于沉积微相追踪的储层预测方法”的专利，公开号CN 119738873 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种基于沉积微相追踪的储层预测方法，包括以下步骤：步骤1：建立沉积微相模型；步骤2：利用步骤1所建立的沉积微相模型进行储层预测；步骤3：进行平面沉积微相展布预测；步骤4：进行井组间沉积微相展布预测；步骤5：基于单井沉积微相的展布，刻画单井及井组间的纵向沉积微相展布；步骤6：确定单井及井组间的储层分布；步骤7：井组内平面表征井的选取；步骤8：沉积微相对储层的影响预测。本发明可以精确建立沉积微相模型，有效预测储层分布，提高储层预测的准确性和效率。

天眼查资料显示，大庆正方软件科技股份有限公司，成立于2002年，位于大庆市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本7555.186万人民币，实缴资本7542.9605万人民币。通过天眼查大数据分析，大庆正方软件科技股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目30次，专利信息15条，此外企业还拥有行政许可3个。

本文源自金融界